PhotoResist: Entwicklung eines neuartigen Prozesses für die Aufbringung des neuen Resists auf unebene Oberflächen von 3D-Testkörpern über die Oberfläche eines flüssigenMediums, indem dieses abgelassen und der Körper parallel hochgeschoben wird

Projektlaufzeit:

02/2023 - 01/2025

Projektleitung (Organisationseinheit):

Prof. Dr. rer. nat. Daniel Schondelmaier (Fakultät Physikalische Technik/Informatik)

Projekttyp:

WHZ-Forschungsprojekt

Kontakt:

Prof. Dr. rer. nat. Daniel Schondelmaier

+49 (375) 536 1514
daniel.schondelmaierfh-zwickaude

Fördermittelgeber:

BMWK

Förderprogramm:

ZIM

Förderkennzeichen:

KK5016605KO2

Logo des BMWK

Anhang

Bild : Logo des BMWK